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本发明提供一种显像装置和显像方法，使在表面上涂布抗蚀剂、曝光后的基板旋转，并供给显像液，控制显像液的液体流动，在基板上形成面内均匀性高的图形。在使在作为基板保持部的旋转夹头（２）上保持水平的基板例如晶片（Ｗ），围绕垂直轴正转，使与该基板的表...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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