显像装置和显像方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显像装置和显像方法，使在表面上涂布抗蚀剂、曝光后的基板旋转，并供给显像液，控制显像液的液体流动，在基板上形成面内均匀性高的图形。在使在作为基板保持部的旋转夹头（２）上保持水平的基板例如晶片（Ｗ），围绕垂直轴正转，使与该基板的表面相对设置的具有从该基板的周边边缘向中央部测延伸的带状喷出口（４１）的显示液喷嘴（４），从基板外侧向着中央部移动，并将显像液供给其表面。在将显示液供给基板表面后，使该基板反转。在这种情况下，由于通过从正转变至反转，基板上的显像液的液体流动图形改变，显像液可以容易地到达基板上的图形的细小部分。结果，可以得到显像后面内均匀性高的图形。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及将表面上涂布抗蚀剂，然后曝光后的基板显像的显像装置和显像处理方法。
技术介绍
在作为半导体制造工序之一的光致抗蚀剂工序中，在半导体晶片(以下称为晶片)表面上涂布抗蚀剂，在按规定的图形将该抗蚀剂曝光后，显像，形成抗蚀剂图形。一般，这种处理利用将曝光装置与进行抗蚀剂的涂布和显像的涂布显像装置连接的系统进行。作为现有的显像装置，如图16所示，将晶片W水平地保持在基板保持部1上，将具有细小的喷出孔的显像液喷嘴11配置在从该晶片W的表面稍微浮起的位置上。在晶片W围绕垂直轴转动的同时，通过使显像液从显像液喷嘴11喷出，并使该显像液喷嘴11在晶片W的旋转半径方向移动，则显像液呈螺旋状充满晶片W的表面上(图16(a))。另外，在显像液12充满晶片W的表面上的状态下，至经过规定的显像时间例如60秒，进行静止显像后(图16(b))，将冲洗液14例如纯水从冲洗液喷嘴13供给晶片W的中央部(图16(c))。这样，对于显像液，不溶解性的部位的抗蚀剂残留，可得到规定的抗蚀剂图形。另外，还已知将显像液供给带有在与绕垂直轴转动的转动方向交叉的方向上延伸的图形部的在表面上具有抗蚀剂的晶片W，通过在使本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显像装置，可对表面上涂布涂布液、曝光后的基板进行显像，其特征为，具有：将所述基板保持为水平的基板保持部；使该基板保持部围绕着垂直轴正转或反转的旋转驱动机构；　与由所述基板保持部保持的基板表面相对地配置，具有从该基板的周边边缘向中央部侧延伸的带状的喷出口的显像液喷嘴；从基板外侧向中央部移动该显像液喷嘴的移动机构；和控制部，其进行如下控制：在利用所述旋转驱动机构使基板正转，并从所述喷出口喷出显像液且使显像液喷嘴移动而向基板表面供给显像液后，利用旋转驱动机构使该基板反转。

【技术特征摘要】
JP 2004-8-20 2004-2414421.一种显像装置，可对表面上涂布涂布液、曝光后的基板进行显像，其特征为，具有将所述基板保持为水平的基板保持部；使该基板保持部围绕着垂直轴正转或反转的旋转驱动机构；与由所述基板保持部保持的基板表面相对地配置，具有从该基板的周边边缘向中央部侧延伸的带状的喷出口的显像液喷嘴；从基板外侧向中央部移动该显像液喷嘴的移动机构；和控制部，其进行如下控制在利用所述旋转驱动机构使基板正转，并从所述喷出口喷出显像液且使显像液喷嘴移动而向基板表面供给显像液后，利用旋转驱动机构使该基板反转。2.如权利要求1所述的显像装置，其特征为，在基板表面的抗蚀剂上，使方向一致形成芯片的图形，另外，在芯片上并排配置密集地形成图形的部位和稀疏地形成图形的部位。3.如权利要求1所述的显像装置，其特征为，所述控制部进一步控制成使得当使基板反转时，从所述喷出口，向基板的中央部喷出显像液。4.如权利要求1所述的显像装置，其特征为，所述控制部进一步控制成使得当使基板反转时，从所述喷出口喷出显像液，并且使显像液喷嘴从基板的外侧向中央部移动。5.如权利要求1所述的显像装置，其特征为，当使基板的旋转从正转切换至反转时，可使基板临时静置。6.一种显像装置，对表面上涂布涂布液、曝光后的基板进行显像，其特征为，具有将所述基板保持为水平的基板保持部；使该基板保持部围绕着垂直轴转动的旋转驱动机构；与由所述基板保持部保持的基板表面相对地配置，具有从该基板的周边边缘向中央部延伸的带状的、而且向着基板的中央部倾斜的喷出口的显像液喷嘴；从基板外侧向中央部移动该显像液喷嘴的移动机构；与由所述基板保持部保持的基板的表面相对地配置，供给用于将从显像液喷嘴供给基板表面的显像液压向中央部侧的流体的流体供给喷嘴；和使流体供给喷嘴跟随着所述显像液喷嘴从基板的外侧向着中央部移动的移动机构。7.如权利要求6所述的显像装置，其特征为，所述流体为稀释的显像液。8.如权利要求6所述的显像装置，其特征为，所述流体为气体。9.一种显像装置，表面上涂布涂布液、曝光后的基板进行显像，其特征为，具有将所述基板保持为倾斜姿势的基板保持部；使该基板保持部围绕着垂直轴转动的旋转驱动机构；与由所述基板保持部保持的基板表面相对地配置，具有从该基板的周边边缘向中央部侧延伸的带状的喷出口的显像液喷嘴；使该显像液喷嘴从基板的外侧向中央部移动的移动机构；和控制部，其进行如下控制使得在由所述旋转驱动机构使基板旋转并从所述喷出口喷出显像液且使显像液喷嘴移动，向基板表面供给显像液。10.如权利要求9所述的显像装置，其特征为，基板的倾斜角为1～10度11.一种显像装置，对表面上涂布涂布液、曝光后的基板进行显像，其特征为，具有将所述基板保持为水平的基板保持部；使该基板保持部绕着垂直轴旋转并且其旋转轴从基板的中心偏心的旋转驱动机构；与由所述基板保持部保持的基板表面相对地配置，具有从该基板的周边边缘向中央部侧延伸的带状的喷出口的显像液喷嘴；使显像液喷嘴从位于连接基板的中心和旋转轴的直线的延长线上的基板的...

【专利技术属性】
技术研发人员：山本太郎，大河内厚，竹口博史，吉原孝介，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]