温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种导电结构的图案转移方法（ｐａｔｔｅｒｎｉｎｇ　　ｍｅｔｈｏｄ），首先提供一个半导体衬底，在半导体衬底上形成一个导电层，在导电层上形成一个硬掩膜层（ｈａｒｄ　　ｍａｓｋ　　ｌａｙｅｒ），以及在硬掩膜层上形成一个光刻胶层。以各向同性刻蚀方式...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。