温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种曝光掩模，该曝光掩模包括：挡光不透明区，阻挡入射光；半透明区；和透明区，使大部分入射光穿过，其中，半透明区产生在大约－７０°至大约＋７０°范围内的相位差。...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。