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一种设有辐射源、构图结构、投影系统、基板和用于将气体从投影系统和基板之间的区域排出的气体冲洗系统的曝光装置。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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