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一种检测光掩膜缺陷的方法包含下列步骤：提供一图像，该图像包括一模拟的光掩膜设计图案、至少一模拟的光掩膜缺陷以及一模拟的芯片（或单元）阵列相互重叠；以及另一步骤：检测该模拟的光掩膜缺陷位于该模拟的芯片（或单元）阵列与位于该模拟的光掩膜设计图案...
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