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本发明提供一种用于降低图案中假象的可见性的光刻设备。该设备包括照明系统、构图装置、投影系统以及调制装置。该照明系统提供辐射光束。该构图装置使光束图案化。该投影系统将光束投影到衬底的目标部分上。该调制装置调制光束，以便使用调制方案赋予图案。...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

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