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本发明涉及一种应用于半导体刻蚀工艺中的屏蔽板。本发明增进流场均匀性的屏蔽板，包括板体，其中所述板体呈环形，在所述板体上由中心向圆周方向呈放射状分布有若干气孔，且若干气孔从板体中心向圆周方向逐渐变大。本发明的有益效果是：本发明中，由于若干气孔...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。