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本发明涉及一种半导体刻蚀设备中控制分子泵的方法，包括先后执行的开启流程和关闭流程，开启流程包括：判断干泵是否开启，若否，则发出分子泵启动报警；判断腔体压力是否小于分子泵开启压力；若否，则等待干泵抽真空完成；启动分子泵，同时开始记时器；判断分...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。