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光掩膜、掩膜图形的生成方法及半导体器件的制造方法技术
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下载光掩膜、掩膜图形的生成方法及半导体器件的制造方法的技术资料
文档序号:3191617
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一种光掩膜,包括:夹持以线状延伸的中央遮光线部(5)从而实质上按照相同线宽并行的一对透光用开口图形(4);和按照从宽度方向的两侧夹持该一对透光用开口图形(4)的方式进行配置的半透过区域。该半透过区域构成为具有使透过的光与透过透光用开口图形(...
该专利属于株式会社瑞萨科技所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社瑞萨科技授权不得商用。
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