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NAND闪存器件及其制造方法技术
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文档序号:3189704
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一种NAND闪存器件,包括半导体衬底、字线、第一和第二选择线、隧道绝缘层和选择栅绝缘层。半导体衬底包括存储晶体管区和选择晶体管区。字线排列在半导体衬底的存储晶体管区,以及选择线排列在半导体衬底的选择晶体管区。隧道绝缘层插入字线和半导体衬底之...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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