下载衬底处理装置以及半导体设备的制造方法的技术资料

文档序号:3184037

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改善真空隔绝方式的预备室中的气体的流动。真空隔绝方式的衬底处理装置包括:收容衬底(1)并对衬底进行处理的处理室(34);与处理室(34)连续设置的预备室(23);将保持着多片衬底(1)的衬底保持件(50)运入以及运出处理室(34)的衬底保持...
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