专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
株式会社日立国际电气
>
衬底处理装置以及半导体设备的制造方法制造方法及图纸
>技术资料下载
下载衬底处理装置以及半导体设备的制造方法的技术资料
文档序号:3184037
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
改善真空隔绝方式的预备室中的气体的流动。真空隔绝方式的衬底处理装置包括:收容衬底(1)并对衬底进行处理的处理室(34);与处理室(34)连续设置的预备室(23);将保持着多片衬底(1)的衬底保持件(50)运入以及运出处理室(34)的衬底保持...
该专利属于株式会社日立国际电气所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社日立国际电气授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。