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本发明公开了一种鳍式结构的晶体管及其制作方法，本发明技术方案在对半导体衬底的表面进行刻蚀形成鳍状结构时，在所述表面的器件区以及所述隔离区均形成至少一个所述鳍状结构，从而能够使得各个所述鳍状结构具有较为一致的刻蚀环境，从而能够精确的形成所需的...
该专利属于泉芯集成电路制造（济南）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过泉芯集成电路制造（济南）有限公司授权不得商用。

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