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一种基板处理方法，其特征在于，包括：　　　　在基板处理装置的处理室内，在将被处理基板载置在载置台上的状态下，进行第一预加热的工序；　　　　使所述载置台的基板支撑销上升，在将被处理基板保持在该基板支撑销上的状态下，进行第二预加热的工序；和　　...
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