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通过部分刻蚀图案化抗反射涂层层的方法技术
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下载通过部分刻蚀图案化抗反射涂层层的方法的技术资料
文档序号:3178117
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描述了一种图案化薄膜的方法。该方法包括在衬底上形成要图案化的薄膜,在薄膜上形成抗反射涂层(ARC)层,并在ARC层上形成掩模层。其后,对掩模层图案化以在其中形成图案,并且利用诸如刻蚀工艺之类的转移工艺将图案部分转移到ARC层。一旦去除了掩模...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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