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对物品进行处理尤其对半导体元件进行清洁的方法和装置制造方法及图纸
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下载对物品进行处理尤其对半导体元件进行清洁的方法和装置的技术资料
文档序号:3176959
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本发明涉及用超声对物品尤其是半导体元件进行的连续的清洁,其中有待清洁的物品布置在液体中。此外本发明涉及一种用于实施按本发明的方法的装置。本发明的一个重要构思是,有待清洁的物品(2)的表面在装有流体的池(5)中得到至少一次最大振动,所述最大振...
该专利属于里纳特种机械有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过里纳特种机械有限责任公司授权不得商用。
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