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本发明提供能够正确地检知收容室内的状态的基板处理装置的分析方法。在处理模块（２）中，测定在腔室内零件即将更换前的导入腔室前的处理气体的发光强度（４２）和通过腔室内后的处理气体的发光强度（４３），在腔室内零件刚更换后，导入腔室前的处理气体的发...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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