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文档序号:3176472

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本发明公开了一种在至少部分涂覆有抗蚀剂的衬底上形成环形密封的光刻方法,所述光刻方法包括步骤:以深紫外辐射辐射衬底上的抗蚀剂环。所述抗蚀剂环被辐射以从抗蚀剂环上去除图案,或者防止经过辐射的抗蚀剂环被图案化。...
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