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本发明公开一种可增强存储窗口的铁电双退火工艺，本方法在铁电存储器成长功能层之前进行预退火，在生长上电极之后进行后退火；所述预退火是指将待成长功能层的存储器放入退火炉中，在氮气的氛围下，用速度V1升温，温度到达200
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该专利属于山东大学所有，仅供学习研究参考，未经过山东大学授权不得商用。

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