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本发明涉及一种成膜和清洁方法，在成膜工序和清洁工序之间包括温度调整工序。在成膜工序中，将处理容器（１）内的第一部位（４）加热至第一温度（例如２００℃），同时，将处理容器（１）内的第二部位（侧壁）加热至比第一温度低的第二温度（例如９０℃），并...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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