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本发明提供一种用于分析晶片上污染物的设备和方法。该设备包括:晶片夹具,用于支撑在其上布置有待分析的污染物的晶片;激光切割器件,用于向晶片辐射激光以从晶片提取分离的样本;分析盒,用于收集通过辐射所述激光从晶片的表面分离的样本;以及与分析盒连接...该专利属于三星电子株式会社;檀国大学校产学协力团所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社;檀国大学校产学协力团授权不得商用。
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本发明提供一种用于分析晶片上污染物的设备和方法。该设备包括:晶片夹具,用于支撑在其上布置有待分析的污染物的晶片;激光切割器件,用于向晶片辐射激光以从晶片提取分离的样本;分析盒,用于收集通过辐射所述激光从晶片的表面分离的样本;以及与分析盒连接...