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本发明公开了一种具有粘接到其上的涂覆膜的部分的光刻设备，所述光刻设备在所述设备的至少一部分上具有携带有涂层的可去除的粘合膜。在实施例中，公开了一种液体供给系统，所述液体供给系统具有液体限制结构，所述液体限制结构沿着在投影系统和衬底支撑件之间...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

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