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提供可防止晶圆边缘部的膜剥落或图案断续的半导体晶圆及半导体装置的制造方法。在硅衬底（１０１）上，在用沟槽分离膜（５００）分离的活性区上形成栅结构（４００），进而将接触层间膜（１０３）、低ｋ通路层间膜即Ｖ层和低ｋ布线层间膜即Ｍ层交替成膜而形成...
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