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本发明提供一种用于处理光刻衬底的方法，包括将光刻衬底放置在腔中的支撑构件上，其中，所述光刻衬底具有大约０摄氏度到大约５０摄氏度的初始温度。将热传递流体引入到所述腔中以将所述光刻衬底冷却至低于大约０摄氏度到低于大约负４０摄氏度的目标温度。在被...
该专利属于奥立孔美国公司所有，仅供学习研究参考，未经过奥立孔美国公司授权不得商用。

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