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提供了一种用于对半导体晶片制造处理进行射频(RF)匹配的闭环多输出控制的设备和方法。一种用于向处理室的站提供信号的设备执行半导体制造处理。多个信号发生器产生具有第一和第二频率的信号。测量电路测量电压驻波比(VSWR)。匹配反射优化器具有被配...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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