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披露了一种用于在本体上提供耐磨材料的方法。也披露了一种可以通过所述方法获得的复合体。所述复合体可以是用于光刻设备中的衬底保持器或掩模版夹具。所述方法包括：提供由玻璃、陶瓷或玻璃陶瓷所制成的本体；提供具有大于20GPa的硬度的耐磨材料；和将所...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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