用于在本体上提供耐磨材料的方法、以及复合体技术

技术编号:31501101 阅读:30 留言:0更新日期:2021-12-22 23:17
披露了一种用于在本体上提供耐磨材料的方法。也披露了一种可以通过所述方法获得的复合体。所述复合体可以是用于光刻设备中的衬底保持器或掩模版夹具。所述方法包括:提供由玻璃、陶瓷或玻璃陶瓷所制成的本体;提供具有大于20GPa的硬度的耐磨材料;和将所述耐磨材料钎焊或激光焊接至所述本体。钎焊或激光焊接至所述本体。钎焊或激光焊接至所述本体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于在本体上提供耐磨材料的方法、以及复合体
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年4月30日递交的欧洲申请19171823.8的优先权,所述欧洲申请的全部内容通过引用并入本文中。


[0003]本专利技术涉及一种用于在诸如未完成的或未抛光的(unfinished)衬底保持器或未完成的或未抛光的掩模版夹具之类的本体上提供耐磨材料的方法。本专利技术也关于一种包括耐磨材料的复合体,诸如衬底保持器或掩模版夹具。

技术介绍

[0004]光刻设备是被构造成将期望的图案施加至衬底上的机器。光刻设备可用于例如集成电路(IC)制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如,掩模)的图案(常常也称为“设计布局”或“设计”)投影至被设置在衬底(例如,晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
[0005]当将图案从所述图案形成装置转印时,所述衬底被夹持至所述光刻设备中的衬底保持器上。所述衬底保持器通常具有用以支撑所述衬底的多个突节。相比于所述衬底的总面积,与所述衬底接触的突节的总面积较小。因此,污染物粒子随机地位于所述衬底本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在本体上提供耐磨材料的方法,包括以下步骤:提供由玻璃、陶瓷或玻璃陶瓷所制成的本体;提供具有大于20GPa的硬度的耐磨材料;和将所述耐磨材料钎焊或激光焊接至所述本体。2.根据权利要求1所述的方法,其中所述方法用于制造包括多个突节的支撑结构,所述多个突节限定用于支撑物体的支撑平面,其中在所述钎焊或激光焊接之后,所述耐磨材料的背离所述本体的表面限定所述突节的远端表面。3.根据权利要求1或2所述的方法,包括:在所述耐磨材料与所述本体之间提供适于将所述耐磨材料钎焊至所述本体的钎焊成型材料;和通过加热所述钎焊成型材料,将所述耐磨材料钎焊至所述本体。4.根据权利要求3所述的方法,其中提供钎焊成型材料的步骤包括:利用所述钎焊成型材料至少涂覆所述本体的待被提供所述耐磨材料的部分和/或利用所述钎焊成型材料涂覆所述耐磨材料的待被连接至所述本体的表面,以及将所述本体和所述耐磨材料按压在一起,使得所述钎焊成型材料位于所述本体与所述耐磨材料之间。5.根据权利要求3所述的方法,其中涂覆于所述本体的所述部分上和/或所述耐磨材料上的所述钎焊成型材料的厚度小于所述耐磨材料的厚度。6.根据权利要求1或2所述的方法,包括通过以下操作将所述耐磨材料激光焊接至所述本体:使所述耐磨材料与所述本体呈实体接触,和使用ps或fs脉冲激光来曝光介于所述耐磨材料与所述本体之间的界面。7.根据权利要求6所述的方法,其中所述耐磨材料是透明的且所述本体是不透明的,并且其中介于所述耐磨材料与所述本体之间的所述界面经过所述耐磨材料而被曝光。8.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:A
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司
类型:发明
国别省市:

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