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本公开提供一种热点预测方法、装置及记录介质。此方法包括下列步骤：取得布局图形，并从布局图形中撷取多个局部图形；定义对布局图形进行光刻所使用光源的光源图；以及利用图形分类算法分析各个局部图形与光源图的相关性，并根据此相关性预测局部图形中的热点...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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