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本发明公开了一种浸没式ArF光刻用的光产酸剂的制备方法。本发明的制备方法包括以下步骤：在溶剂中，将化合物II和化合物III进行如下式的成盐反应，得到所述的如式I所示的化合物。含有通过本发明制得的光产酸剂的光刻胶具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗...
该专利属于上海芯刻微材料技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海芯刻微材料技术有限责任公司授权不得商用。

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