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一种半导体装置,包含基板;井,为第一导电型且包含第一导电型的防击穿层;源极特征以及漏极特征,在防击穿层上且为第二导电型;条状特征,在井上且为第一导电型;多个垂直堆叠的通道层,在防击穿层上且将源极特征连接至漏极特征;栅极,环绕每个通道层;源极...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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一种半导体装置,包含基板;井,为第一导电型且包含第一导电型的防击穿层;源极特征以及漏极特征,在防击穿层上且为第二导电型;条状特征,在井上且为第一导电型;多个垂直堆叠的通道层,在防击穿层上且将源极特征连接至漏极特征;栅极,环绕每个通道层;源极...