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本实用新型提供一种工艺腔室，包括用于由工艺腔室外部接收晶片的传片口，工艺腔室中设置有第一冷却组件，第一冷却组件的晶片承载面的高度低于传片口的高度，工艺腔室中还设置有第二冷却组件，第二冷却组件包括第二冷却盘，第二冷却组件能够驱动第二冷却盘上升...
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