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本发明公开用于形成图案化材料层的方法和装置。在一个布置中，衬底的表面的选定部分在沉积过程期间被照射，所述照射在所述选定部分中局部驱动所述沉积过程，并且由此在由所述选定部分限定的图案中形成沉积材料层。对所述沉积材料进行退火以改变所述沉积材料。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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