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本实用新型公开了一种离子辅助、倾斜溅射的PVD系统，包括腔室，腔室内设置有等离子体源、靶支架和基板载物台，所述基板载物台的正面周围设置有气体喷淋单元，所述气体喷淋单元包括喷气环，基板载物台对应喷气环的中间用以放置基片，所述气体喷淋单元还包括...
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