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光电突触器件阵列及其制备方法、图像处理设备技术
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文档序号:31378228
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本公开提供了一种光电突触器件阵列及其制备方法、图像处理设备,该光电突触器件阵列包括:底电极;依次叠设于底电极上的P型半导体层、N型半导体层、光吸收层以及透明的顶电极;其中,顶电极与底电极保持垂直交叉结构,每个交叉点形成一个单独的光电突触器件...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。
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