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披露了一种暗场量测装置，所述暗场量测装置包括物镜布置和用于阻挡所述零阶辐射的零阶阻挡件。所述物镜布置将照射引导到待测量的试样上并且从所述试样收集散射辐射，所述散射辐射包括零阶辐射和较高阶衍射辐射。所述暗场量测装置能够操作以：执行照射扫描，以...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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