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本实用新型提供了一种半导体真空烧结装置的拨料机构，包括设置在前道工位和后道工位之间的滑道，所述滑道的上方设有推杆组件，所述推杆组件包括推杆和驱动气缸，所述驱动气缸的缸体通过水平驱动机构安装在固定的机架上，所述推杆固定安装在所述驱动气缸的活塞...
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