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一种晶片光阻去除装置，包括机台，所述机台上方设置有顶板，顶板底端设置有滑轨，滑轨上设置有操纵臂，操纵臂底端设置有载具，所述机台内部左侧设置有紫外线箱，紫外线箱右侧设置有剥离箱，剥离箱内底端设置有加热件，剥离箱两侧设置有超声装置，通过PLC控...
该专利属于广州市鸿浩光电半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广州市鸿浩光电半导体有限公司授权不得商用。

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