一种图形转移方法技术资料下载

当前位置: 首页 > 专利查询>中国科学院半导体研究所 > 一种图形转移方法技术 >技术资料下载

下载一种图形转移方法的技术资料

文档序号：31027779

温馨提示：您尚未登录，请点登陆后下载，如果您还没有账户请点注册，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种图形转移方法，包括：提供一衬底；在衬底上涂覆光刻胶；通过激光照射在光刻胶上形成欠曝光区域，其中，欠曝光区域呈上宽下窄的梯形槽状；通过对欠曝光区域的光刻胶显影、坚膜、减薄、刻蚀后，得到目标图形。得到目标图形。得到目标图形。该专利属于中国科学院半导体研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点登陆后下载，如果您还没有账户请点注册，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。