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本公开实施例提供一种光刻胶剂烘烤设备。光刻胶剂烘烤设备包括烘烤室、烤盘、排气管路以及盖板。烘烤室在其侧壁上具有排气口。烤盘设置于烘烤室中，并且配置用以支撑晶片及加热在晶片上方的光刻胶剂材料。排气管连接到排气口，并且配置用以排出烘烤室内部的气...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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