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纳米聚焦Ｘ射线组合透镜的制作方法，包括步骤如下：（Ａ）用电子束刻蚀技术制作玻璃基底金属铬材料的光刻掩模版；（Ｂ）对硅衬底进行常规清洁处理；（Ｃ）在经步骤（Ｂ）处理的硅衬底表面自旋涂覆一层厚度为１－３微米的普通紫外负性光刻胶；（Ｄ）使用步骤（...
该专利属于浙江工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江工业大学授权不得商用。

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