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本发明属于二氧化硅技术领域，尤其是一种光学镀膜用高纯度二氧化硅制备方法，针对存在的杂质含量高和纯度不足的问题，现提出以下方案，包括以下步骤，S1，首先将纯化后的原料逐层平布在气相制备反应釜内，通过高纯度氧气通入，采用300
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该专利属于徐州金琳光电材料产业研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过徐州金琳光电材料产业研究院有限公司授权不得商用。

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