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本发明提供一种校正方法和等离子体处理装置，用于导出从开始向腔室供给处理气体起至处理气体到达腔室内为止的到达时间。校正方法包括以下工序：开始检测腔室的阻抗，在该腔室的内部设置有用于载置基板的载置台；开始向腔室供给处理气体；以及根据检测到的阻抗...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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