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本实用新型涉及一种预热环，用于外延生长设备，包括环形主体，所述环形主体包括相对设置的第一面和第二面，所述第一面与外延生长设备中用于承载硅片的基座的承载面位于同一侧，所述第二面上沿其周向均匀的设置有凹凸结构。本实用新型还涉及一种外延生长设备。...
该专利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟硅片技术有限公司授权不得商用。

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