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本实用新型涉及一种硅片用超声波清洗机构，包括容纳槽、排液框、硅片放置盒、旋转电机、超声波设备和导流管；所述容纳槽内具有容置空间，且所述容纳槽的一侧顶部设有溢流槽；所述排液框设于所述溢流槽一侧；所述硅片放置盒设于所述容置空间内，且所述硅片放置...
该专利属于若名芯半导体科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过若名芯半导体科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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