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本发明涉及一种光刻版及集成电路的制造方法。该光刻版包括多个用于光刻对位的光栅图形单元，光栅图形单元包括多个膜层保留区域图形和多个间隙区域图形，至少有一个膜层保留区域图形的宽度与其余膜层保留区域图形的宽度不同，间隙区域图形与膜层保留区域图形间...
该专利属于无锡华润上华科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡华润上华科技有限公司授权不得商用。

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