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本发明提供了一种电极的制造方法、电极及半导体器件，涉及半导体制造技术领域，所述方法包括如下步骤：S1.在半导体层的表面上形成刻蚀层，在刻蚀层上得到刻蚀图形，其中，刻蚀图形包括位于刻蚀层远离半导体一侧表面并与半导体层的表面连通的第一开口；通过...
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