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公开了一种用于光刻制造工艺中的量测设备。该量测设备包括辐射源，该辐射源包括具有分裂成多个光学路径的输出的驱动激光器，所述多个光学路径中的每个都包括各自的宽带光产生器。该量测设备还包括：照射光学器件，所述照射光学器件用于照射结构；至少一个检测...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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