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一种等离子体化学气相沉积装置制造方法及图纸
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下载一种等离子体化学气相沉积装置的技术资料
文档序号:29672202
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本申请实施例提供一种等离子体化学气相沉积装置,所述装置包括:沉积室;与所述沉积室顶部的等离子体喷头连接的等离子体发生器,用于产生等离子体,并通过所述等离子体喷头向所述沉积室底部的基台的表面喷射所述等离子体;与所述基台连接的分压模块,用于通过...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。
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