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半导体装置及其制造方法制造方法及图纸
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文档序号:29503826
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在多个沟槽栅构造之间形成有体区域(3),并且在体区域的一部分的表面部形成有第1杂质区域(4)。体区域具有第2导电型杂质浓度比该体区域高并且与上部电极(10)接触的第2导电型接触区域(3a)。第1杂质区域具有第1导电型杂质浓度比第1杂质区域高...
该专利属于株式会社电装所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社电装授权不得商用。
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