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本公开涉及测量图案化过程的参数。在一个布置中，照射通过所述图案化过程形成的目标。从所述目标散射的辐射的子阶衍射分量被检测且用以确定所述图案化过程的参数。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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